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Convocatoria al primer Congreso Internacional de Diseño Dual / Madrid

  • 16:00 - 15 Enero, 2015
Convocatoria al primer Congreso Internacional de Diseño Dual / Madrid
Convocatoria al primer Congreso Internacional de Diseño Dual / Madrid

El próximo 15 de abril la ESNE -Escuela Universitaria de Diseño, Innovación y Tecnología- de Madrid asume la organización del I Congreso Internacional de Diseño Dual. El objetivo es analizar y debatir sobre la contemporaneidad del Diseño en todas sus facetas y aristas a través de la pregunta "¿cómo se enfrenta la disciplina del Diseño a la exigente demanda de productos que puedan ofrecer varias funciones en un único diseño?"

El diseño contemporáneo se caracteriza porque un producto responde al menos a dos objetivos, es decir que sirve para dos cosas o tiene un componente interdisciplinar en su resultado. Es algo que vemos a diario, cafeterías que son librerías, tiendas de música que venden ropa, videojuegos con fines educativos, deportistas que son modelos de moda, publicaciones en formatos físicos y digitales interactuando con las redes sociales, escuelas de diseño y otras áreas que ofrecen programas académicos a los que llaman “duales"… Está pasando.

Esta situación nos ha hecho todavía más conscientes de estas circunstancias cambiantes actuales, donde nada es sólo “una sola cosa”, ni nadie “un único profesional”. Lo que los organizadores del I Congreso de Diseño Dual pretenden es trasladar nuestro día a día en esta escuela interdisciplinar a un nivel de conversación colectiva y de mayor escala, que será este encuentro, y esperamos que tanto estudiantes como docentes e investigadores aporten su visión ello a través de las comunicaciones que planteamos, y las mesas de debate y las ponencias representativas. 

Hay tres maneras de participar, con comunicación, sin comunicación y con un sistema de becas. Los investigadores podrán presentar propuestas de comunicación relacionadas con el Diseño, en cualquiera de sus versiones, bien sea diseño arquitectónico, audiovisual, gráfico, interiores, moda, producto, videojuego.

A considerar que el 30 de enero de 2015 es la fecha límite de entrega de resúmenes

Más información en el siguiente link

  • Título

    Convocatoria al primer Congreso Internacional de Diseño Dual / Madrid
  • Sitio Web

  • Organizadores

  • Desde

    24 de Abril de 2015 08:30
  • Hasta

    24 de Abril de 2015 22:00
  • Lugar

    ESNE. Escuela Universitaria de Diseño, Innovación y Tecnología.
  • Dirección

    28016 Madrid, Madrid, Spain
Cita: "Convocatoria al primer Congreso Internacional de Diseño Dual / Madrid" 15 ene 2015. ArchDaily Perú. Accedido el . <http://www.archdaily.pe/pe/760332/primer-congreso-internacional-de-diseno-dual-madrid>