Capilla del Martir Norteamericano de la Secundaria Jesuita / Hodgetts + Fung

Capilla del Martir Norteamericano de la Secundaria Jesuita / Hodgetts + Fung

© Joe Fletcher © Joe Fletcher © Joe Fletcher © Joe Fletcher + 28

Carmichael, Estados Unidos
  • Arquitectos: Hodgetts + Fung
  • Área Área del proyecto de arquitectura Área:  974
  • Año Año del Proyecto de arquitectura Año:  2014
  • Proveedores Marcas y productos usados en este proyecto de arquitectura
    Proveedores: All Weather Architectural Aluminum, Amerlux, Eleganza, Lutron, SONOS, Sunoptics Skylights
  • Ingeniero Estructural:Thorton Tomasetti
  • Ingeniero Mecánico:Capital Engineers Consulting, Inc.
  • Ingeniero Eléctrico:CRO Engineering Group, Inc.
  • Ingeniero Civil:Warren Consulting Engineers, Inc.
  • Arquitecto Del Paisaje:Yamasaki Landscape Architects
  • Acústica:ARUP Associates
  • Contratista:Swinerton Builders
  • Ciudad:Carmichael
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© Joe Fletcher
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Descripción enviada por el equipo del proyecto. El diseño para la capilla Jesuita tiene como objeto crear un camino contemplativo para cada estudiante. Este viaje comienza en la entrada de del nuevo campus de Fair Oaks Boulevard. Las suaves curvas de las unidades y las vías vienen desde el campus JHS existente. Se crea una extensión de las vías del campus existente para abrazar una plaza y un campo boscoso que envuelven el espacio de la capilla.

© Joe Fletcher
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La capilla se posiciona como el nuevo vértice del campus Jesuit High School; en su posición se convierte en una parte integral del plan maestro general de la escuela, mientras mantiene una presencia visual para la comunidad. La ubicación y la altura de la capilla reflejan su importancia como edificio hito de la Secundaria Jesuita. La orientación del edificio posiciona el punto más alto del techo hacia la zona de llegada de los estudiantes, creando un punto de transición para los estudiantes que ingresan a la escuela; los puntos más bajos de la azotea se relacionan con las alturas de los edificios de los campus adyacentes.

© Joe Fletcher
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La geometría simple y limitada paleta de materiales de la capilla crea entradas sutiles y espacios de reunión para los estudiantes. Las entradas se definen por un cambio en los materiales y techos bajos. El ingreso de los estudiantes se orienta a lo largo de la plaza en dirección este/oeste que conecta al campus existente, y es la entrada más prominente, una larga pared sobresale del plano para recoger a los estudiantes. La transición desde el aula hasta la capilla sucede desde que los estudiantes comienzan su camino a través de la plaza y suben los tres últimos pasos hacia la entrada. La entrada del público está en la esquina noroeste dirigida hacia el estacionamiento. Un pequeño vestíbulo exterior conduce a un par de grandes puertas marcando una entrada para ocasiones ceremoniales.

© Joe Fletcher
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Corte
Corte
© Joe Fletcher
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En el lado sur de la capilla un collage de vidrio transparente, translúcido y de color ofrece un vistazo al vestíbulo a los transeúntes. Frente a la escuela, esta es la cara más transparente del edificio. Las paredes este / oeste, vestidas con grandes paneles de cemento; actúan como anclas para el techo plegado anteriormente. Arriba, una esbelta torre perfora el techo, para ser coronada por una simple cruz, que será visible tanto desde el campus como desde sus alrededores.
Nota: Este Proyecto fue originalmente publicado en Junio 16, 2015

© Joe Fletcher
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Ubicación de la obra

Dirección:JESUIT HIGH SCHOOL, 1200 Jacob Lane, Carmichael, CA 95608, Estados Unidos

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Sobre esta oficina
Cita: "Capilla del Martir Norteamericano de la Secundaria Jesuita / Hodgetts + Fung" [Jesuit High School Chapel of the North American Martyr / Hodgetts + Fung] 16 nov 2019. ArchDaily Perú. Accedido el . <https://www.archdaily.pe/pe/763893/capilla-del-martir-norteamericano-de-la-secundaria-jesuita-hodgetts-plus-fung> ISSN 0719-8914

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